鑫南光小編為大家介紹四川精密光刻機產(chǎn)品介紹：

一、主要用途：

本設(shè)備可對晶片、陶瓷片、玻璃片（圓片或方片）進行一次性曝光，特別適用于對聲表面波器件、光柵、分劃板、可控硅等的曝光，二極管、三極管、分立元件的**次光刻。

二、主要技術(shù)參數(shù) ：

1.適用于對Φ4″以下只需一次曝光的各種基片進行曝光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采用200W直流汞燈，曝光頭光束不均勻性≤±6%（Φ100mm范圍以內(nèi)）。

3.采用時間繼電器（可調(diào)節(jié)）控制曝光頭的快門。

4.具有兩個真空密著承片臺（一個在曝光時，另一個可進行上下片的操作），根據(jù)用戶需求，我公司可制作圓形或方形真空密著承片臺。

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