G-31B4型高精密光刻機(jī)

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述

本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。

主要構(gòu)成

本設(shè)備為板板對準(zhǔn)雙面曝光

主要由雙目視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、二臺高均勻性曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、高精度對準(zhǔn)工作臺、Z軸升降機(jī)構(gòu)、真空管路系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺等組成。

曝光頭部件圖

CCD顯微系統(tǒng)|X、Y、Q對準(zhǔn)工作臺

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
適用于φ100mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光，雙面可同時(shí)曝光，亦可用于單面曝光。

2.結(jié)構(gòu)**
Z軸采用滾珠直進(jìn)式導(dǎo)軌和可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)，真空吸版，防粘片機(jī)構(gòu)。

3.操作簡便
X\Y移動、Q轉(zhuǎn)、Z軸升降采用手動方式；
吸版、反吹采用按鈕方式，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡便。

 4. 可靠性高
采用進(jìn)口（日本產(chǎn)）電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和

精密的機(jī)械零件，使本機(jī)運(yùn)行具有非常高的可靠性。
      5. 特設(shè)功能
    除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題

主要技術(shù)指標(biāo)

曝光類型：版-版對準(zhǔn)雙面曝光
曝光面積：φ100mm
曝光不均勻性：≤±3%
曝光強(qiáng)度：≥5mw/cm2
曝光分辨率：2μm
曝光模式：雙面同時(shí)曝光，配置2臺GCQ350W型**壓直流球形汞燈高均勻性曝光頭

對準(zhǔn)范圍：X:±5mm Y:±5mm
套刻精度：2μm

旋轉(zhuǎn)范圍：Q向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)≤±5°

顯微系統(tǒng)：雙視場CCD系統(tǒng)，物鏡1.6X～10X，計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng)，19″液晶監(jiān)視器；
掩模版尺寸：能真空吸附4"方形掩板，對版的厚度無特殊要求（1～3mm皆可）。

基片尺寸：適用于Φ3"mm圓形基片（或3"×3"mm方形基片），基片厚度≤5mm。