G-43D4型高精密單面光刻機

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，可以光刻Φ4"以下基片，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,不管哪一種承片臺，都能實現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質(zhì)量。

曝光頭及部件圖

-主要構(gòu)成
主要由防震工作臺、高均勻性LED4"專用曝光頭、氣動系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

主要功能特點

1. 適用范圍廣
適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
     2. 結(jié)構(gòu)**
    本設(shè)備配置有可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)；具

有真空掩膜版架、真空片吸盤。
    3. 操作簡便
    本設(shè)備操作簡單，調(diào)試、維護、修理等都非常簡便。
    4. 設(shè)備運行穩(wěn)定、可靠
    采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械

零件，使本機具有非常高的可靠性。
    5. 特設(shè)功能
    除標準承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平 的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主要技術(shù)參數(shù)：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式曝光。

3、曝光面積：Φ4"，配置4"LED專用曝光頭，紫外光源壽命≥2萬小時

4、紫外光源：365nm。

5、實現(xiàn)“真空密著”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：2um

7、 光的不均勻性：≤±3%；

8、樣品尺寸：Φ100mm。

9、曝光強度：0～30mw/ cm2可調(diào)（此指標用紫外光源I線365nm測量）。